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Chiller process
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반도체 산업의 공정 과정에서는 웨이퍼 건식 식각 장치와 진공 증착 공정 등에서 많은 열이 발생합니다. 이때 챔버 내부와 웨이퍼 주변의 온도를 일정하게 유지하여 공정 효율을 높이는 열 관리 장치를 Chiller라고 합니다. 이러한 칠러 시스템에서는 배관 압력과 웨이퍼 온도를 안정적으로 유지하기 위해 냉각수(coolant)의 레벨과 전도도를 측정하는 것이 중요합니다.
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JUMO MIDAS S05
JUMO MIDAS S05 (401010)
칠러의 배관 IN, OUT단의 air 미압압력측정
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용접된 측정시스템
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측정매체온도 -40 to +125 °C
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JUMO NESOS R02 LS (408302)
갈덴탱크 내의 갈덴 레벨측정
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플로트 및 리드 접점을 통한 점 레벨 측정
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높은스위칭전압
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선박 및 폭발방지구역의 승인
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JUMO tecLine CR(202924)
갈덴용액의 용액 변화 감지 및 외부 액체의 혼합유무를 측정
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측정 범위: 0.05 μS/cm to 1 mS/cm
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2전극식 시스템의 전도도센서
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온도센서 type 설정 가능
products
Wafer Cleaning process
웨이퍼 생산 라인의 클리닝 공정에서는 온도 제어가 매우 중요합니다.
반도체 칠러 공정
semiconductor
공정에 따라 차이가 있지만, 일반적으로 웨이퍼는 원통형 탱크 내부에서 약 8~12단계의 세척 과정을 거칩니다. 이때 사용되는 용액으로는 수산화나트륨(NaOH), 불산(HF) 등이 있으며, 온도 범위는 약 0~300°C(최대 400°C)입니다. 탱크는 외부 가열 요소를 통해 가열되며, 이 과정에서 온도는 반드시 정밀하게 제어되어야 합니다. 또한 안전 온도 리미터는 설정된 기준을 초과할 경우 시스템을 차단하도록 작동해야 합니다.
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JUMO Safety M STB /STW
안전 온도 리미터(STB), 안전 온도 모니터(STW)
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JUMO Safety M STB /STW
- 다양한 국제 인증(DIN EN 14597, SIL3, PLe, UL 등) 획득
- 릴레이 출력 기반의 경고 및 한계값 알람 기능
- 최대 2개의 온도 센서를 통한 비교 모니터링
- USB 인터페이스로 간편한 설정 및 운용 가능
더 알아보기
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Scrubber Process
Lorem ipsum dolor sit amet, consetetur sadipscing elitr
반도체 스크러버
스크러버는 반도체 제조 공정 중 발생하는 다양한 유해 배기가스를 기준치 이하로 처리하여 배출하는 장치입니다. 세정 방식에 따라 습식(wet), 건식(dry), 덤프(dump), 플라즈마(plasma) 방식 등으로 구분됩니다. 각 공정에서는 배관 내 압력 및 pH 측정 등이 중요하며, 이러한 영역에 JUMO의 다양한 제품이 적용됩니다.
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JUMO tecLine (201020)
JUMO tecLine (201020)
첨가된 가성소다 및 재사용수에 대한 PH&ORP측정
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고품질의 산업용 전극
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반도체 스크러버를 위한 불산용HF 스페셜 사양
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온도/압력범위: -5 to +135 °C / Upto 10 bar (at 50 °C)
novelties
JUMO dTRANS PH02 (202551)
JUMO dTRANS PH02 (202551)
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측정 : pH, redox, NH3, 온도, 유량
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2개의 pH센서를 활용한 값 측정 가능
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실시간 데이터 로거 등 설정 가능
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JUMO MIDAS S06 (401011)
JUMO MIDAS S06 (401011)
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0...+100mbar 상대압측정
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연결이음부 없이 용접되어 높은 공정안정성
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정밀도 (linearity) 0.3 to 0.35 %
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